Samsung schimbă „imprimanta” cu care produce cipuri: High-NA EUV intră în fabrici din 2028

Samsung și ASML extind colaborarea pentru utilizarea litografiei High-NA EUV la producția de memorii DRAM, cu scopul de a realiza circuite mai fine și mai eficiente.
Citește articolul integral pe Mobilissimo (link extern către Mobilissimo — se deschide în filă nouă)
Fragmentul de mai sus este un rezumat. Articolul integral aparține Mobilissimo.
Urmărește-ne:Facebook





